光干涉計(jì)量測(cè)試技術(shù)是以波長為計(jì)量單位，是一種公認(rèn)的高精度計(jì)量測(cè)試技術(shù)。干涉儀輸出的是一幅干涉圖，借助于數(shù)學(xué)物理模型，可以將干涉圖與多種被測(cè)參數(shù)相聯(lián)系，從而實(shí)現(xiàn)相關(guān)物理參數(shù)的測(cè)量。薄膜光學(xué)常數(shù)(折射率、消光系數(shù))和厚度是薄膜設(shè)計(jì)和制備所必需的重要參數(shù)，其受制備工藝的影響不同而不同，因此要制備性能穩(wěn)定的薄膜器件，提高生產(chǎn)制備的成品率，就必須精確地檢測(cè)出各種制備工藝下薄膜器件的光學(xué)常數(shù)和厚度值。在國家國際
光干涉計(jì)量測(cè)試技術(shù)是以波長為計(jì)量單位，是一種認(rèn)可的高精度計(jì)量測(cè)試技術(shù)。干涉儀輸出的是一幅干涉圖，借助于數(shù)學(xué)物理模型，可以將干涉圖與多種被測(cè)參數(shù)相聯(lián)系，從而實(shí)現(xiàn)相關(guān)物理參數(shù)的測(cè)量。薄膜光學(xué)常數(shù)(折射率、消光系數(shù))和厚度是薄膜設(shè)計(jì)和制備所必需的重要參數(shù)，其受制備工藝的影響不同而不同，因此要制備性能穩(wěn)定的薄膜器件，提高生產(chǎn)制備的成品率，就必須準(zhǔn)確地檢測(cè)出各種制備工藝下薄膜器件的光學(xué)常數(shù)和厚度值。在國家靠前科技合作計(jì)劃及省部級(jí)科技計(jì)劃項(xiàng)目的支持下，以高精度的光干涉測(cè)試為原理，開展了以多種光干涉測(cè)試方法對(duì)光學(xué)薄膜厚度的測(cè)量研究，形成了基于高精度光干涉測(cè)試技術(shù)的薄膜厚度測(cè)量系列方法。
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